Лаборатории оснащены необходимым для проведения исследований оборудованием, в частности, имеется:
- двухреакторная кластерная система вакуумно-плазменного травления (Cl, F процессы) структурообразующих слоев СБИС Plasmalab System 100 фирмы Oxford instr.;
- установка ионной планаризации структурообразующих слоев кристаллов СБИС IM 150 фирмы Oxford applied research.;
- установка ионно-лучевого травления Oxford Instruments Plasma Technology Ionfab (Англия);
- установка синтеза УНТ Oxford Instruments Plasma Technology Nanofab (Англия);
- установка высоковакуумного термического напыления Angstrom Engineering Evovac (Канада;)
- установка высоковакуумного термического напыление Evatec BAK 501;
- установка комбинированного напыления Angstrom Engineering Evovac (Канада);
- установка плазменной очистки Diener Tetra 30;
- установка быстрого термического отжига AnnealSys AS-ON;E
- система, предназначенная для газофазного травления диэлектрических слоев в парах ангидрида плавиковой кислоты и эталона, SPTS Monarch 3;
- лазерно-лучевое экспонирование фотошаблонных заготовок и прямая литография – установка DWL 2000 фирмы Heidelberg Instruments (Германия);
- оптический микроскоп Nikon Eclipse 200 (Япония);
- растровый электронный микроскоп Raith 150;
- сканирующий электронно-ионный микроскоп Helios NanoLab компании FEI;
- ионный микроскоп VionPFIB компании FEI;
- ионно-оптический микроскоп OptiFIB компании DCG;
- многофункциональный инспекционный микроскоп UF диапазона INM 300 DUV фирмы Leica;
- многофункциональный инспекционный микроскоп IR диапазона INM 100 IR фирмы Leica;
- установка для механической очистки пластин SS-W 80B фирмы DNS (Screen) (Япония).
- сканирующий электронный микроскоп с системой энергодисперсионного микроанализа (EDAX) Nova NanoSEM 230 фирмы FEI.;
- комплекс оборудования для исследования технологии выращивания нанотрубок.
|
|